Die Integrations- oder Speicherdichte elektronischer Bausteine läßt sich nur durch lithographische Verfahren noch weiter steigern, die Strahlung kürzerer Wellenlänge verwenden, als sie das heute ...

„Die feinsten Strukturen, die präzisesten Optiken, die komplexeste Messtechnik: Wenn wir über High-NA-EUV-Lithographie sprechen, geht das nicht ohne Superlative“, sagt Andreas Pecher, Mitglied im ...

Lithographie, E lithography, ein von A. Senefelder (1771-1834) 1796 erfundenes und in den folgenden Jahrzehnten zu großer Vollkommenheit entwickeltes Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den ...

Das erste Belichtungssystem auf Basis der neu entwickelten Maskless-Exposure-Technologie (MLE) hat EVG vorgestellt. Jetzt kann die Volumenproduktion starten. Die Produktplattform »LITHOSCALE« eignet ...

Den ersten elektrischen Schaltkreisen wurde eine Art Stempel aufgedrückt: eine Maske, die den Silizium-Wafer berührte und von der die Strukturen eins zu eins übertragen wurden. Mit den von Generation ...

Den Siegeszug des Steindruckverfahrens beleuchtet die Hamburger Kunsthalle in einer abwechslungsreichen Überblicksschau. Im Mittelpunkt steht die Blütezeit der Lithographie im Frankreich des 19.